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    • 专利摘要:
    提供一種顯示面板、其製造方法及使用於該顯示面板的玻璃料成份。顯示面板包含：一第一基板、面對第一基板之一第二基板、以及將第一基板與第二基板相互結合之一玻璃料，其中玻璃料在任何介於約760 nm至約860 nm波長範圍內波長的雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度。
    公开号:TW201301938A
    申请号:TW101103640
    申请日:2012-02-04
    公开日:2013-01-01
    发明作者:Sun-Young Jung；Jin-Hwan Jeon；Seung-Yong Song；Ji-Young Moon
    申请人:Samsung Display Co Ltd；
    IPC主号:H01L51-00
    专利说明:
    顯示面板、其製造方法及使用於該顯示面板的玻璃料成份
    相關申請案之交互參照
    本申請案主張於2011年6月17日向韓國智慧財產局申請，申請號為10-2011-0059177的韓國專利申請案之優先權效益，其揭露於此完整併入作為參考。
    本實施例係關於一種包含以玻璃料密封的玻璃包裝之顯示面板、製造該顯示面板之方法、以及使用於該顯示面板的玻璃料成份。
    有機發光二極體顯示器係為自發光顯示器，且於兩電極之間包含有機材料。有機發光二極體顯示器在所注入之電子及電洞於有機材料中結合時發光。
    有機發光二極體顯示器的電極及有機層容易因為進入有機發光二極體顯示器的氧氣和濕氣而損壞。因此，玻璃料係插設於玻璃基板之間以密封玻璃基板，並保護內部裝置以抵擋氧氣和濕氣。
    為了改善玻璃料的密封能力，應增加玻璃料的有效密封寬度。玻璃料的有效密封寬度係依據在上基板及下基板相互結合時玻璃料加熱及熔融的效率程度而定。
    本實施例之態樣提供一種具有較優秀密封性能之顯示面板。
    本實施例之態樣亦提供一種以較優秀密封性能製造顯示面板之方法。
    本實施例之態樣亦提供一種具有較優秀密封性能的玻璃料成份。
    然而，本實施例之態樣並不受此處所述而限制。對本實施例所屬技術領域具有通常知識者來說，本實施例上述及其他之態樣將會藉由參照下文中本實施例之詳述而變得顯而易見。
    根據本實施例之態樣，其係提供一種顯示面板，其包含：一第一基板、面對第一基板之一第二基板、以及將第一基板與第二基板相互結合之一玻璃料，其中玻璃料在任何介於約760 nm至約860 nm波長範圍內的雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度。
    根據本實施例之另一態樣，其係提供一種製造顯示面板之方法，該方法包含：準備一第一基板及一第二基板；塗佈玻璃料成份於第二基板上，玻璃料成份係在810 nm的雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度；堆疊第一基板於玻璃料成份上；以及藉由將810 nm的雷射光線照射至玻璃料成份上以燒結玻璃料成份。
    根據本實施例之另一態樣，其係提供一種包含母玻璃及填料之玻璃料，其在810 nm的雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度。
    本實施例現將參照其中顯示較佳實施例之附圖於下文中作更完整的說明。然而，本實施例可以不同形式實施，且不應詮釋受此處所述之實施例所限。相反地，這些實施例係提供以使本揭露將更徹底且完整，且充分傳達實施例之範疇予所屬技術領域具有通常知識者。本說明書中相同的參考符號代表相同構件。於附圖中，層及區域係為了清晰而誇大。
    除非另行定義，所有用於此處的技術及科學上之詞彙係具有此些實施例所屬技術領域具有通常知識者所習知之相同意義。需注意的是任何及所有範例或例示性詞彙僅係旨在用於提供以較佳的闡明實施例，且除非另行限定，否則並不限制本實施例之範疇。更進一步的，除非另行定義，所有以一般用於字典的意義而定義的詞彙可能不會多作解釋。
    第1圖係為根據一例示性實施例之顯示面板100之布局示意圖。第2圖係為第1圖所示之顯示面板100的剖面圖。
    參照第1圖及第2圖。顯示面板100包含第一基板400、第二基板300、以及插設於第一基板400及第二基板300之間的玻璃料200。
    第一基板400可以玻璃材料像是硼矽玻璃(borosilicate glass)、鈉鈣玻璃(soda-lime glass)或其混成物而製成。然而，本實施例並不受此所限。
    第一基板400可從用於接附玻璃料200至第一基板400的製程中之加熱構件(像是雷射光線)而接受熱應力。因此，第一基板400可以幾乎不吸收對應至加熱構件所產生熱能之波長範圍的材料而製成。
    用來發光的複數個微裝置可形成於第一基板400上。舉例來說，複數個發光單元可形成於第一基板400上。此處，發光單元可為有機發光二極體，且每個有機發光二極體可具有提供電子的陰極、傳輸陰極所提供之電子的電子注入層、在所傳輸之電子及電洞相互反應以激發有機分子時發光的有機發射層、傳輸陽極所提供之電洞的電洞注入層、以及提供電洞的陽極之堆疊結構。
    複數個薄膜電晶體可更形成於第一基板400上。在發光單元包含有機發光二極體時，薄膜電晶體可能會連接至有機發光二極體的陰極電極及陽極電極之至少其一，以控制一個或一些連接的陰極電極及陽極電極之電流供應。
    第二基板300面對第一基板400並覆蓋位於第一基板400上的發光單元。如同第一基板400，第二基板300可以像是硼矽玻璃、鈉鈣玻璃或其混成物的玻璃材料而製成。此外，如同第一基板400，第二基板300可以從幾乎不吸收對應至加熱構件所產生熱能之波長範圍的材料而製成。
    玻璃料200係插設於第一基板400及第二基板300之間，且提供密封空間於第一基板400及第二基板300之間。為了在第一基板400及第二基板300的中央區域提供充份的大型密封空間，玻璃料200可形成於其周邊區域。玻璃料200可以燒結玻璃料成份而形成。
    為了以玻璃料200完整的自外界環境密封顯示區域，玻璃料200的密封寬度應該要夠大以成為有效密封寬度。此處，密封寬度可定義為在玻璃料200因為吸收熱能而熔融，且接著燒結後能連接第一基板400及第二基板300並使玻璃料200能阻絕外界空氣及濕氣之寬度。密封寬度將會參照第3A圖及第3B圖而作更詳細的描述。
    第3A圖為玻璃料200的掃描式電顯圖。第3B圖係為第3A圖之玻璃料200的密封寬度之示意圖。參照第3A圖及第3B圖，玻璃料200接附於第一基板400及第二基板300上的寬度並非一直等同於玻璃料200的整個寬度D。如第3B圖所示，玻璃料200的寬度在其中玻璃料200接附於第二基板300以接觸第二基板300的區域中係等同於玻璃料200的最大寬度D。然而，玻璃料200的寬度d在其中玻璃料200接附於第一基板400以接觸第一基板400的區域中，因為玻璃料200邊緣的空白空間500及550之故而小於玻璃料200的最大寬度D。在此情況下，有助於密封顯示面板100以從外界阻絕空氣和濕氣的寬度係為玻璃料200接附至第一基板400上的寬度d。因此，密封寬度係確定為排除玻璃料200未連接至第一基板400的邊緣(例如，空白空間500及550)之確實接附於第一基板400上的寬度d。
    不同於第3A圖及第3B圖所示之範例，接附於第二基板300上的玻璃料200的寬度亦可能會小於整個玻璃料200的寬度D。在此情況下，玻璃料200接附於第一基板400上的較小寬度以及玻璃料200接附於第二基板300上的寬度係決定了密封寬度。
    有效密封寬度可代表夠大到使玻璃料200連接第一基板400及第二基板300並阻絕外界空氣和濕氣之寬度。舉例來說，當密封寬度對玻璃料200最大寬度D的比例約為0.7或更高時，其可以確定已形成有效密封寬度。具體地說，在玻璃料200的最大寬度D為600 μm時，如果使玻璃料200能夠阻絕外界空氣和濕氣的密封寬度為420 μm或更寬，其可以確定已形成有效密封寬度。另外，在玻璃料200的最大寬度D為1200 μm時，840 μm或更寬的密封寬度可確定為有效密封寬度。
    玻璃料200的密封寬度可以玻璃料200的中央線而對稱。然而，密封寬度亦可為各種形式。
    在形成玻璃料200的材料利用加熱構件加熱後，有些形成玻璃料200的材料可能會不適當地燒結為玻璃料200。不適當地燒結的材料係無助於密封顯示面板100。透過平穩地燒結製程而形成超過有效密封寬度的夠大密封寬度係與顯示面板100的密封程度有密切關係。
    為了增加玻璃料200的有效密封寬度，最理想是玻璃料200完全地吸收了來自加熱構件的熱能。舉例來說，使用具有高光學密度的玻璃料200對於密封顯示面板100較有利，光學密度意味著吸收輻射能量的程度。加熱構件可為在760至860 nm之波長範圍內任何波長之雷射光線。
    光學密度亦可以消光係數(extinction coefficient)表示且可以[/μm]計量。吸光和消光係數可滿足下列方程式。
    吸光度=A=log(1/t)=log(1/(It/Io))=-log(It/100) =εCL，
    消光係數=A/L=εC，
    其中t=It/Io代表傳輸光線強度/入射光線強度(入射光：100%，傳輸光線以穿透率(%)計量)，ε表示比例常數，C表示樣本的濃度(假設樣本的濃度為一常數)，而L表示樣本的長度(厚度)。
    在樣本對於任何介於約760 nm至約860 nm的波長範圍內波長之雷射光線的穿透率，例如810 nm的雷射光線為20 %時，如果樣本具有5 μm的厚度，A(吸光度)=-log(20/100)=0.69897，而A/L=εC (消光係數)=0.69897/5μm=0.139794/μm。
    下文中，將說明確保玻璃料200密封表現較優異的光學密度範圍及達成在此光學密度範圍的光學密度之方法。
    在使用雷射光線的玻璃料燒結製程中，玻璃料的光學密度決定了玻璃料200的密封寬度。如果可識別形成有效密封寬度的最小光學密度，則選擇形成玻璃料材料需要的時間就可依據識別結果而減少，藉此減少整個玻璃料製程。在經過810 nm之雷射光線照射之後，使玻璃料仍具有有效密封寬度的光學密度係依據母玻璃或玻璃料的其他成份的特性而有所不同。下文中詳細描述玻璃料的成份以及玻璃料之小光學密度。
    玻璃料可包含母玻璃及陶瓷填料(ceramic filler)。在一些實施例中，母玻璃可為具有複數個化合物的釩系母玻璃(vanadium-based mother glass)。舉例來說，釩系母玻璃可包含總玻璃料含量之約40至約50莫耳百分比的含釩化合物五氧化二釩(V2O5)，且可更包含二氧化碲(TeO2)、氧化鋇(BaO)、氧化鋅(ZnO)。
    陶瓷填料係分佈於母玻璃中以維持燒結玻璃料的形狀。此外，陶瓷填料控制了玻璃料的熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion, CTE)，以維持玻璃料的物理強度，更具體地說，陶瓷填料可以具有相較母玻璃較低的熱膨脹係數之材料而製成。因此，即使在母玻璃具有相對較高的熱膨脹係數時，由於母玻璃的熱膨脹係數因陶瓷填料的熱膨脹係數而有所抵銷，因此玻璃料的熱膨脹係數可維持較低。低熱膨脹係數增加抗熱的物理強度。因此，陶瓷填料有助於增加玻璃料之物理強度。在釩系母玻璃用來作為母玻璃時，與釩系母玻璃混合的陶瓷填料可為，例如磷鎢酸鋯(Zr2(WO4)(PO4)2)。
    接下來將說明透過實驗範例的驗證，釩系母玻璃應具有超過約0.0683/μm的光學密度，以為了在以任何介於約760 nm至約860 nm波長範圍內波長之雷射光線照射後具有有效密封寬度，舉例來說，810 nm的雷射光線。玻璃料的光學密度上限可為0.2/μm。0.2/μm或更低的光學密度可避免雷射光線傳輸量於各玻璃料隨高度減少而導致的燒結缺陷。
    釩質玻璃料中的釩成份含量可能改變玻璃料之光學密度。具體地說，釩成份可為，例如五氧化二釩(V2O5)。在釩質玻璃料中五氧化二釩的含量為約40至約50莫耳百分比時可獲得高光學密度。在一些其他實施例中，釩質玻璃料中可更包含四氧化二釩(V2O4)。在此情況下，四氧化二釩的含量總和以及五氧化二釩的含量總和可為約40至約50莫耳百分比。由於四氧化二釩較五氧化二釩偏向棕色，越高含量的四氧化二釩可導向越高熱能的吸收率，進而增加了釩質玻璃料的光學密度。
    為了要增加玻璃料中四氧化二釩的含量，玻璃料成份可在氮氣(N2)環境下塑化。更具體來說，包含五氧化二釩的釩系母玻璃因為五價離子的釩組成而為微黃棕色。如果釩質化合物在氮氣環境中有化學反應，結果化合物中會含有二氧化釩(VO2)。在氮氣環境中的釩系母玻璃化學反應方程式如下所示。
    V2O5+ C → 2VO2+ CO2↑
    因此，結果化合物包含四價釩離子組成，且四價釩離子係為棕色。此對應至增加玻璃料對熱能吸收率的條件，因而增加了玻璃料之光學密度。
    在塑化玻璃料之製程中，於工作空間中氧氣的流動速率應維持一預定速率或高於一預定速率以誘發所需之化學反應。因此，於工作空間中用於塑化製程之氮氣的流動速率需要依照於工作空間中氧氣的流動速率而調整。舉例來說，於工作空間中用於塑化製程之氮氣的流動速率可為30至40體積百分比。
    在一些其他實施例中，玻璃料之母玻璃可為包含複數個化合物的鉍系母玻璃(bismuth-based mother glass)。鉍質玻璃料可包含玻璃料總含量30至45莫耳百分比的三氧化二鉍(Bi2O3)，且可更包含氧化鋅(ZnO)、三氧化二硼(B2O3)、氧化鋇(BaO)、三氧化二鋁(Al2O3)、二氧化矽(SiO2)、以及氧化鎂(MgO)。此處，可與鉍系母玻璃混成的陶瓷填料可為，例如堇青石    (Mg2(Al4O3(SiO3)5), Cordierite)。
    接下來將說明透過實驗範例的驗證，鉍質玻璃料應具有超過約0.1567/μm的光學密度，以為了在以任何介於約760 nm至約860 nm波長範圍內波長之雷射光線照射後具有有效密封寬度，舉例來說，810 nm的雷射光線。為何鉍質玻璃料需要比釩質玻璃料具有更高的光學密度之原因是其例如色彩之材料特性係與釩質玻璃料不同，且因此，其需要不同熱能量。
    鉍質玻璃料可更包含色料以增加其光學密度。加入玻璃料之色料可改變整個玻璃料之色彩。由於鉍質玻璃料因鉍之特性而為白色，所以吸收藉由加熱構件所提供之能量係不充足的。為此，色料可加入鉍系母玻璃以改變玻璃料之顏色，以使玻璃料可更能吸收照射能量。當含錳色料加入玻璃料時，玻璃料之光學密度係與沒有加入時相比而增加。因此，增加玻璃料之光學密度可增加玻璃料之有效密封寬度。此處，含錳色料可為選自由氧化錳(MnO)、二氧化錳(MnO2)以及、四氧化三錳(Mn3O4)所組成之群組中一種或多種材料。舉例來說，加入玻璃料之四氧化三錳顯著地增加了玻璃料之光學密度，結果是確保了足夠大的有效密封寬度。
    在鉍質玻璃料中增加含錳色料的含量，會導向玻璃料之光學密度的增加，使得玻璃料的有效密封寬度增加。以此角度來看，整個玻璃料中含錳色料的含量應為9.9或更高的莫耳百分比。為了避免雷射光線傳輸量於各玻璃料隨高度減少而導致的燒結缺陷，整個玻璃料中含錳色料的含量應為11.01莫耳百分比。
    在一些實施例中，加入色料至玻璃料可能會誘發玻璃料之黑化(melanization)。黑化玻璃料可更好地吸收熱能。因此，加入至玻璃料之色料增加了對於從雷射光線所產生能量之吸收率。增加之能量吸收率增加了玻璃料之光學密度，因此增加了玻璃料之有效密封寬度。色料可直接加入至母玻璃或可加入至玻璃料作為母玻璃及填料以外的額外成份。
    含錳色料可直接加入至母玻璃或可加入作為母玻璃及填料以外的額外成份。母玻璃中增加的多餘錳含量可能會削弱母玻璃的獨特特性。特定地說，為玻璃組成的母玻璃具有在適當溫度下熔融的一定流量。然而，如果在母玻璃中的錳含量超過一預定值，則母玻璃的流量改變，使得較難以燒結該玻璃料。因此，直接加入至母玻璃之含錳色料之含量可限定於一預定含量。由此角度來看，選自由氧化錳、二氧化錳、以及四氧化三錳所組成之群組中一種或多種材料可以玻璃料總含量之0.1至2莫耳百分比的含量加入至母玻璃，且其他組成亦可作為與母玻璃分離之色料加入至母玻璃。
    含有選自由氧化錳、二氧化錳、以及四氧化三錳所組成之群組中一種或多種材料的色料可不只加入至鉍系母玻璃為主的玻璃料，其亦可加入至釩系母玻璃為主的玻璃料。
    下文中，將說明根據一例示性實施例製造顯示面板之方法。第4圖為根據一例示性實施例製造顯示面板之方法流程示意圖。
    參照第1圖、第2圖以及第4圖，玻璃料成份係塗佈於第二基板300上(步驟S100)。玻璃料成份不僅可塗佈於其上設置有發光單元的第一基板400上，且可塗佈於覆蓋發光單元的第二基板300上，在一些情況下，玻璃料成份可塗佈於第一基板400上。玻璃料成份可使用網版印刷法(screen printing method)塗佈於第二基板300上，但不受此限制。塗佈於第二基板300上的玻璃料成份可為膠質糊，其係藉由加入氧化物粉以及有機材料至玻璃粉末中而形成。
    塗佈之玻璃料成份係被塑化(步驟S200)。為了接附作為固態玻璃料200之膠質糊於第二基板300上，玻璃料成份係於像是隔室之工作空間中塑化。如果玻璃料份為釩質玻璃料成份，工作空間可置於氮氣環境中。此處，在工作空間中氮氣的流動速率可為30至40體積百分比或更少。
    塑化溫度可為約300至約500°C的範圍內，較佳為400°C。在塑化製程中，有機材料分散於空氣中，且膠質糊係固化以作為固態玻璃料200接附至第二基板300上。
    第一基板400係置於塑化之玻璃料200上(步驟S300)。表面上具有發光單元之第一基板400係安置以面對具有玻璃料200接附於其上之第二基板300。
    最後，熱能係使用加熱構件提供至玻璃料200(步驟S400)。加熱構件可為任何介於760 nm至860 nm波長範圍內波長之雷射光線，舉例來說，810 nm的雷射光線。雷射照射可以約12.5至13.0 W (瓦特)的功率執行。在第一基板400安置於玻璃料200上後，810 nm的雷射光線可照射於顯示面板100。因此，玻璃料200係熔融並接附於第一基板400，使得第一基板400與第二基板300結合在一起。此處，如果玻璃料200具有0.0683/μm或更高的光學密度，可形成如上述足夠大之有效密封寬度。因此，當第一基板400與第二基板300係藉由此玻璃料200彼此接附時，可避免氧氣及濕氣進入像素區域。
    本實施例將會進一步參照下列實驗範例而詳述。下文中未提供之資訊對所屬技術領域具有通常知識者來說可輕易推知，且因此其敘述將予於省略。
    實驗範例1：光學密度與釩質玻璃料的密封寬度之關係
    四種具有不同光學密度的玻璃料樣本R1至R4係藉由調整玻璃料之釩含量而準備。在玻璃料樣本R1至R4中的釩含量滿足R1<R2<R3<R4。如第5圖所示，在各玻璃料樣本R1至R4的釩含量係調整為在810nm雷射光線下，R1具有光學密度0.0683/μm、R2具有光學密度0.0795/μm、R3具有光學密度0.0892/μm以及R4具有光學密度0.1483/μm。
    各玻璃料樣本R1至R4係塗佈為600 μm的寬度，且810 nm的雷射光線係以12.5瓦特的能量照射。然而，由於在R1的情況下完全無法形成密封寬度，雷射光線的能量係增加至15.5瓦特，且接著再進行實驗。結果顯示於表1、第5圖以及第6圖。在表1中，當密封寬度對玻璃料寬度的比率為0.7或更高時判定為形成有效密封寬度。
    [表1]
     
    參照表1、第5圖及第6圖，R1的情況下儘管雷射光線的功率已顯著地增加，有效密封寬度仍無法形成。另一方面，在R2、R3以及R4的情況下，可在即使12.5瓦特的功率下形成足夠大的有效密封寬度，且R4具有最大的密封寬度。
    由上述結果可理解的是，釩質玻璃料僅在當光學密度超過0.0683/μm時可具有有效密封寬度。
    實驗範例2：光學密度與具有或不具有含錳色料之鉍質玻璃料的密封寬度之關係
    玻璃料樣本P1係於不添加含四氧化三錳的色料至鉍質玻璃料而準備，而另外一個玻璃料樣本P2則是以添加含四氧化三錳的色料至鉍質玻璃料而準備。接著，玻璃料樣本P1及P2的光學密度係以810 nm之雷射光線計量。玻璃料樣本P1及P2係塗佈為600 μm的寬度，且810 nm之雷射光線係以12.5瓦特的功率照射。接著，測量玻璃料樣本P1及P2的密封寬度，此結果係於表2、第7圖及第8圖顯示。
    [表2]
     
    參照表2、第7圖及第8圖，不含四氧化三錳的色料之玻璃料樣本P1的光學密度測量僅為0.0615/μm，而有含四氧化三錳的色料之玻璃料樣本P2所測量的光學密度則為0.1732/μm。玻璃料樣本P2相較玻璃料樣本P1具有較高的光學密度。參照表2及第7圖，在P1的情況下完全無法形成密封寬度。另一方面，含有四氧化三錳的色料之玻璃料樣本P2的密封寬度為467 mm，從而確保了足夠大的密封寬度。
    從上述結果可理解的是，添加含有四氧化三錳的色料至玻璃料增加了玻璃料之光學密度，且因此確保了足夠大的有效密封寬度。
    實驗範例3：根據鉍質玻璃料中錳含量之鉍質玻璃料之密封寬度
    準備三種藉由調整鉍質玻璃料中含有四氧化三錳的色料含量之具有不同光學密度之玻璃料樣本D1至D3。如表3所示，母玻璃中四氧化三錳的含量於D1的情況下為0.5莫耳百分比、於D2的情況下為1.0莫耳百分比、而於D3的情況下為2.0莫耳百分比。除了母玻璃外，8至9莫耳百分比的含四氧化三錳之色料係添加至各玻璃料樣本D1至D3。
    各玻璃料樣本D1至D3係塗佈為600 μm的寬度，且810 nm的雷射光線係以12.5瓦特的功率照射。接著，測量玻璃料樣本D1至D3的密封寬度。此結果係顯示於表3、第9圖及第10圖。
    [表3]
     
    參照表3、第9圖及第10圖，玻璃料中越高含量的四氧化三錳會導向越大的玻璃料密封寬度。此外，有效密封寬度係形成於所有玻璃料樣本D1至D3。
    從上述結果可理解的是，為了增加玻璃料之有效密封寬度，可增加四氧化三錳的含量。
    實驗範例4：雷射密封鉍質玻璃料之光學密度範圍
    為了找出雷射密封下之光學密度範圍，實驗係藉由改變添加含有四氧化三錳的色料至鉍質玻璃料之方法而進行。
    鉍系母玻璃(Bi mother glass)係以不添加含有四氧化三錳的色料至玻璃料而準備，而鉍黑母玻璃(Bi Black mother glass)則以僅添加含有四氧化三錳的色料至玻璃料而準備。此外，鉍黑母玻璃+色料(Bi Black mother glass + pigment)樣本係不僅添加含有四氧化三錳至母玻璃，也添加至玻璃料。
    各玻璃料樣本係以810 nm的雷射光線以12.5瓦特的功率照射，以判定是否其具有效密封寬度。此結果係顯示於表4及第11圖。
    [表4]
     
    參照表4及第11圖，鉍系母玻璃樣本之光學密度係接近於0。儘管鉍黑母玻璃樣本相較於鉍系母玻璃樣本顯示較高的光學密度，其仍然不具有效密封寬度。
    鉍系母玻璃+色料樣本具有0.1004/μm的光學密度。在此光學密度值下，鉍系母玻璃+色料樣本具有用於連接兩基板的密封寬度，但不具有效密封寬度。
    鉍黑母玻璃+色料樣本具有0.1567/μm的光學密度且因此具有效密封寬度。
    上述結果顯而易見的是，在鉍黑母玻璃+色料樣本用於顯示面板用的玻璃料時，需要最小為0.1567/μm之光學密度以形成用於連接並密封顯示面板之兩基板之有效密封寬度。
    總結其詳述，所屬技術領域具有通常知識者將了解的是，可在實質上不脫離本實施例之原則下可對較佳實施例進行許多變化及修改。因此，揭露之較佳實施例僅係用於通常性及解釋性意義，而非用於限制性目的。
    100．．．顯示面板
    200．．．玻璃料
    400．．．第一基板
    D、d．．．寬度
    300．．．第二基板
    500、550．．．空白空間
    S100、S200、S300、S400．．．步驟
    R1、R2、R3、R4、P1、P2、D1、D2、D3．．．玻璃料樣本
    本實施例上述及其他態樣及特徵將會藉由參照附圖詳述其例示性實施例而變得更顯而易知，其中：第1圖係為根據一例示性實施例之顯示面板的布局示意圖；第2圖係為顯示於第1圖之顯示面板剖面圖；第3A圖係為玻璃料之掃描式電顯圖；第3B圖係為第3A圖的玻璃料之密封寬度示意圖；第4圖係為根據一例示性實施例製造顯示面板之方法流程圖；第5圖係為釩質玻璃料中釩化合物含量與釩質玻璃料的光學密度之關係圖；第6圖係為第5圖中各樣本密封寬度之示意圖；第7圖係為包含於鉍質玻璃料的色料種類與鉍質玻璃料之光學密度之關係圖；第8圖係為第7圖中各樣本密封寬度之示意圖；第9圖係為具有含錳色料之玻璃料中錳含量與玻璃料之光學密度之關係圖；第10圖係為第9圖中各樣本之有效密封寬度示意圖；以及第11圖係為用於雷射密封所需的鉍質玻璃料之光學密度範圍示意圖。
    100．．．顯示面板
    200．．．玻璃料
    400．．．第一基板
    D．．．寬度
    权利要求:
    Claims (23)
    [1] 一種顯示面板，其包含：一第一基板；一第二基板，其係面對該第一基板；以及一玻璃料，其相互結合該第一基板與該第二基板，其中該玻璃料在任何介於約760 nm至約860 nm波長範圍內之波長的雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度。
    [2] 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中當該玻璃料的最大寬度為D，且在該玻璃料接觸該第一基板之區域中該玻璃料的寬度為d1，並在該玻璃料接觸該第二基板之區域中該玻璃料的寬度為d2，且當d1及d2中較小值係定義為該玻璃料之一密封寬度時，該玻璃料之該密封寬度對D的比率係為約0.7或更大。
    [3] 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中當該玻璃料接觸該第一基板之區域中該玻璃料的寬度係為d1，並在該玻璃料接觸該第二基板之區域中該玻璃料的寬度係為d2，且當d1及d2中較小值係定義為該玻璃料之一密封寬度時，該玻璃料之該密封寬度係為約420 μm至約600 μm。
    [4] 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該玻璃料包含一釩系母玻璃(vanadium-based mother glass)。
    [5] 如申請專利範圍第4項所述之顯示面板，其中該玻璃料包含約40至約50莫耳百分比的五氧化二釩(V2O5)。
    [6] 如申請專利範圍第5項所述之顯示面板，其中該玻璃料更包含四氧化二釩(V2O4)。
    [7] 如申請專利範圍第6項所述之顯示面板，其中該玻璃料係為棕色。
    [8] 如申請專利範圍第4項所述之顯示面板，其中該玻璃料更包含一填料及一色料，該色料包含選自由氧化錳(MnO)、二氧化錳(MnO2)、以及四氧化三錳(Mn3O4)所組成之群組中一種或多種材料。
    [9] 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該玻璃料包含一鉍系母玻璃(bismuth-based mother glass)，且該玻璃料具有約0.1567/μm或更高的光學密度。
    [10] 如申請專利範圍第9項所述之顯示面板，其中該玻璃料包含一填料及一色料，該色料包含選自由氧化錳、二氧化錳、以及四氧化三錳所組成之群組中一種或多種材料。
    [11] 如申請專利範圍第10項所述之顯示面板，其中該色料的含量係約9.9至約11.01莫耳百分比。
    [12] 如申請專利範圍第11項所述之顯示面板，其中該玻璃料包含約30至約45莫耳百分比的三氧化二鉍(Bi2O3)。
    [13] 一種製造顯示面板之方法，該方法包含：準備一第一基板及一第二基板；塗佈一玻璃料成份於該第二基板上，該玻璃料成份係在約810 nm波長的雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度；堆疊該第一基板於該玻璃料成份上；以及藉由以約810 nm波長的雷射光線照射該玻璃料成份以燒結該玻璃料成份。
    [14] 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中照射雷射光線係以約12.5至約13.0瓦特的功率執行。
    [15] 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中該玻璃料成份包含一釩系母玻璃，且該方法更包含在塗佈該玻璃料成份後，於包含約30至約40體積百分比之氮氣環境下的工作空間中，以約300至約500°C的溫度塑化該玻璃料成份之步驟。
    [16] 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中該玻璃料成份包含一鉍系母玻璃，且在塗佈該玻璃料成份中，在約810 nm波長之雷射光線下具有約0.1567/μm或更高之光學密度之該玻璃料成份係塗佈於該第二基板上。
    [17] 一種玻璃料成份，其包含一母玻璃及一填料，且在約810 nm波長之雷射光線下具有高於約0.0683/μm的光學密度。
    [18] 如申請專利範圍第17項所述之玻璃料成份，其中該母玻璃係為包含五氧化二釩(V2O5)之一釩系母玻璃，且該玻璃料成份中五氧化二釩之含量係約40至約50莫耳百分比。
    [19] 如申請專利範圍第18項所述之玻璃料成份，更包含一色料，該色料包含選自由氧化錳(MnO)、二氧化錳(MnO2)以及四氧化三錳(Mn3O4)所組成之群組中一種或多種材料。
    [20] 如申請專利範圍第17項所述之玻璃料成份，其中該母玻璃係為包含五氧化二釩之一釩系母玻璃，且該玻璃料成份除了該母玻璃以外更包含一添加物，該添加物包含五氧化二釩。
    [21] 如申請專利範圍第17項所述之玻璃料成份，其中該母玻璃係為包含三氧化二鉍(Bi2O3)之一鉍系母玻璃，該玻璃料成份中三氧化二鉍的含量係約30至約45莫耳百分比，且該鉍系母玻璃的光學密度在810 nm波長之雷射光線下係約0.1567/μm或更高。
    [22] 如申請專利範圍第21項所述之玻璃料成份，更包含一色料，該色料包含選自由氧化錳、二氧化錳以及四氧化三錳所組成之群組中一種或多種材料。
    [23] 如申請專利範圍第22項所述之玻璃料成份，其中該母玻璃除了該色料外更包含選自由氧化錳、二氧化錳以及四氧化三錳所組成之群組中一種或多種材料。
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